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Technical articles2025
6-172025
5-21桌面型小型離子濺射儀的設(shè)計(jì)特點(diǎn)詳細(xì)介紹
桌面型小型離子濺射儀是用于薄膜沉積、表面處理以及材料改性的一種先進(jìn)工具，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)涂層、表面分析等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)通過利用離子束轟擊靶材，使靶...2024
12-162024
11-18光纖鍍膜小型離子濺射儀適合實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種用于精確鍍膜技術(shù)的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、材料科學(xué)等領(lǐng)域。其主要功能是通過離子濺射技術(shù)將薄膜材料沉積到光纖表面，以改善其光學(xué)性能...2024
10-21低溫濺射小型磁控濺射儀使用時(shí)的注意要點(diǎn)
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種在材料科學(xué)和表面工程領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的設(shè)備，主要用于制備薄膜、涂層以及納米結(jié)構(gòu)。工作原理基于磁控濺射技術(shù)。具體來(lái)說(shuō)，當(dāng)真空腔室內(nèi)注入一定...2024
9-14手套箱適用離子濺射儀與傳統(tǒng)離子濺射設(shè)備相比有哪些特點(diǎn)？
手套箱適用離子濺射儀是一種結(jié)合了手套箱技術(shù)的離子濺射設(shè)備。其核心原理是利用高能粒子轟擊靶材，使靶材表面的原子或分子獲得足夠的能量并脫離靶材，隨后在基片上沉積形成...2024
8-20冷濺射小型磁控濺射儀可在消費(fèi)品上添加耐磨、裝飾性的涂層
冷濺射小型磁控濺射儀是一種先進(jìn)的薄膜沉積設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在各種基材上制備高質(zhì)量、均勻的薄膜。這種技術(shù)因其低溫、高效率和出色的膜層控制能力而被廣泛應(yīng)用于材料...2024
7-17薄膜制備小型磁控濺射儀在半導(dǎo)體器件的制造中的應(yīng)用
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種用于在各種基材上沉積薄膜材料的設(shè)備。它基于磁控濺射技術(shù)，該技術(shù)利用磁場(chǎng)控制等離子體中的電子運(yùn)動(dòng)，從而增加等離子體的密度和濺射效率。磁...
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